真空蒸鍍是將裝有基片的真空室抽成真空，然后加熱被蒸發的鍍料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸氣流，入射到基片表面，凝結形成固體薄膜的技術。

　　根據蒸發源的不同可以將真空蒸鍍分為電阻加熱蒸發源、電子束蒸發源、高頻感應蒸發源及激光束蒸發源蒸鍍法。

　　1、電阻蒸發源是用低電壓大電流加熱燈絲和蒸發舟，利用電流的焦耳熱是鍍料熔化、蒸發或升華。這種方式結構簡單，造價低廉，使用相當普遍。采用真空蒸鍍法在純棉織物表面制備負載TiO2織物，紫外線透過率都比未負載的純棉織物的低，具有好的抗紫外線性能，制備TiO2薄膜時，膜層較均勻，當在玻璃表面蒸鍍一層鉻鈦、鎳鈦合金等裝飾薄膜，裝飾效果，光學、耐磨、耐蝕性能良好。

　　2、電子束蒸發源利用燈絲發射的熱電子，經加速陽極加速，獲得動能轟擊處于陽極的蒸發材料，是蒸發材料加熱氣化，實現蒸發鍍膜。這種技術相對于蒸發鍍膜，可以制作高熔點和高純的薄膜，是高真空鍍鈦膜技術中是一種新穎的蒸鍍材料的熱源。

　　3、高頻感應蒸發源是利用蒸發材料在高頻電磁場的感應下產生強大的渦流損失和磁滯損失，從而將鍍料金屬蒸發的蒸鍍技術。這種技術比電子束蒸發源蒸發速率更大，且蒸發源的溫度均勻穩定。

　　4、激光束蒸發源蒸鍍技術是一種比較理想的薄膜制備方法，利用激光器發出高能量的激光束，經聚焦照射到鍍料上，使之受熱氣化。激光器可置于真空室外，避免了蒸發器對鍍材的污染，使膜層更純潔。同時聚焦后的激光束功率很高，可使鍍料達到極高的溫度，從而蒸發任何高熔點的材料，甚至可以使某些合金和化合物瞬時蒸發，從而獲得成分均勻的薄膜。

　　真空蒸鍍法具有設備簡單，節約金屬原材料，沉積Ti金屬及其氧化物、合金鍍層等，表面附著均勻，生產周期短，對環境友好，可大規模生產等突出優點。