對于真空設備制造廠家而言，真空鍍膜技術已廣泛地應用于能源開發、包裝、電子學、光學、表面科學以及科學研究等領域中。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等。此外還有化學氣相沉積法。如果從真空鍍膜的目的是為了改變物質表面的物理、化學性能的話，這一技術又是真空表面處理技術中的重要組成部分?，F就其幾個主要應用方面做一簡單介紹。

　　首先在光學方面，一塊光學玻璃或石英表面上倍車燈鍍膜機鍍一層或幾層不同物質的薄膜后，即可成為高反射或無反射（即增透膜）或者作任何預期比例的反射或透射材料，也可以作成對某種波長的吸收，而對另一種波長的透射的濾色片。而立式單開門鍍膜機的高反射膜從大口徑的天文望遠鏡和各種激光器開始、一直到新型建筑物的大窗鍍膜茉莉，都很需要。增透膜則大量用于照相和各種激光器開始、一直到新型建筑物的大窗鍍膜玻璃，都很需要。增透膜則大量用于照相機和電視攝象機的鏡頭上。

　　在元件方面，在真空中蒸發鎳鉻，鉻或金屬陶瓷可以制造電阻，在塑料鍍膜機上蒸發鋁、一氧化硅、二氧化鈦等可以制造電容器，蒸發硒可以得到靜電復印機用的硒鼓、蒸發鈦酸鋇可以制造磁致伸縮的起聲元件等等。真空蒸發鍍膜機還可以用于制造超導膜和慣性約束巨變反應用的微珠鍍層。此外還可以對珠寶、鐘表外殼表面、紡織品金屬花紋、金絲銀絲線等用蒸發鍍膜機蒸鍍裝飾用薄膜，以及采用濺控濺射鍍膜機對刀具、模具等制造超硬膜。

　　在電子學方面真空鍍膜更占有極為重要的地位。各種規模的繼承電路。包括存貯器、運算器、告訴邏輯元件等都要采用導電膜、絕緣膜和保護膜。作為制備電路的掩膜則用到鉻膜。磁帶、磁盤、半導體激光器，約瑟夫遜器件、電荷耦合器件（ CCD ）也都甬道各種薄膜。在顯示器件方面，錄象磁頭、高密度錄象帶以及平面顯示裝置的透明導電膜、攝像管光導膜、顯示管熒光屏的鋁襯等也都是采用真空鍍膜機制備。