1:真空蒸發鍍膜
在真空室中加熱蒸發容器中的原材料,使其原子或分子從表面氣化逸出,形成蒸氣流,入射到待鍍產品表面,凝結形成固態薄膜的方法。
2:離子鍍膜
蒸發源的加熱和蒸發鍍膜相同。由于系統為等離子狀態,使金屬離子在產品表面吸附成膜,金屬離子具有高能量,鍍膜時離子結晶性佳、膜層的密著性高等
3:磁控濺射鍍膜
給靶材施加高電壓(形成等離子狀態),使正荷電氣體離子撞擊靶材、金屬原子飛彈,而在產品表面形成金屬膜層的方法。
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